查看原文
其他

芯球专栏推荐 |Small QFN 印字明淡不一品质改善(封装方向)

Peter Wu 摩尔芯球 2021-08-06

识别二维码可提交半导体产业相关需求

☟☟☟



芯球专栏推荐



文章题目:《Small QFN印字不清改善

文章来源:摩尔芯球速芯微专栏

文章正文

(阅读大概需要10分钟)

☟☟☟


主题选定

Small QFN 印字明淡不一品质改善



选定理由


印字明淡不一及共用性展开:

  • 品质改善

    • 改善字符线宽

    • 解决印字明淡不一

  • 效率提升

    • 设备利用率提升



目前现状


1、Small QFN Mark yield 状况说明

由VM检测发现,Mark yield 持续保持在98%有下降趋势


2、目前机台利用率说明

从WW38-----WW42 设备OEE平均约7%---Idle约85%利用率严重偏低



原因分析


1、MARK 不同机台字符分析

通过测量印字字符发现,字符线宽存在差异(0.02MM)但不会出现印字明淡不一


2、Tape膜对印字明淡不一影响

通过实验前后印字深度与线宽无明显差异。

在Mark后印字面保持完好,但经SAW贴膜后印字暗淡现象发生。贴膜轻微影响印字外观。

3、药水清洗对印字明淡不一影响

通过实验前后印字深度与线宽无明显差异。

在清洗前印字面保持完好,但经药水清洗后印字暗淡现象发生,药水影响印字外观。


要因分析总结:

通过验证结果得出产品印字明淡不一取决于 :线宽/贴膜/药水/三个因素



评估与执行

1、 Work Plan

2、LASER HEAD 镜头调整

通过反复调整焦距及光源大小数值将线宽调整在0.01MM. 达到与B-2000T设备线宽一致。

3、胶膜评估减少saw后残胶/XY-C30清洗药水对印字影响

通过评估LZ-F512胶膜效果最高,即使不使用XY-C30药水清洗也没有残胶(后续待小批量确认结果)

4、LASER机台共用性L/S检测结果

设备各作业一条相同Dummy,同时在L/S机台检测印字是否有Reject 84ea,测试Pass 1146ea,

结论:Reject 84ea为少印及多印和塑封体刮伤,可以实行共用。

Conclusion



通过评估:改变字符线宽为最佳效果,并提升Mark机台共用性。



效果确认


1、Small QFN 更改线宽后药水浸泡品质:结论:药水浸泡对印字无明显影响


2、追踪MFG 作业Small QFN 产品从WW43开始产品无印字明淡不一扣量:

Remark:到目前为止无印字明淡不一case。Yield 有98%提升到99%

3、追踪目前机台利用率提升

从WW43-----WW46 设备OEE平均约7%---提升至37%利用率上升30%,主要为作业Normal QFN



标准化


update :

1.Small QFN设备产品线宽要求必须大于0.1MM。预防印字面出现明淡不一。


感谢观看

关于摩尔精英


摩尔精英是领先的芯片生态链平台,使命是“让中国没有难做的芯片”,提供一站式 “芯片设计服务、供应链管理、人才和企业服务”等专业服务,客户覆盖全球1500家芯片公司。我们致力于提升效率,赋能芯片公司加速设计。

我们拥有从180nm到8nm的设计服务能力,支持Turnkey、NRE和驻场等灵活服务模式,提供从Spec/FPGA/算法到芯片交付,包括:架构规划、IP选型、前端设计、DFT、验证、物理设计、版图、IT/CAD PaaS、流片、封装和测试等服务。产品涵盖:消费电子、物联网、高性能计算、汽车电子、工业等。

摩尔精英目前全球员工超过300人,总部位于上海,在合肥、北京、深圳、重庆、苏州、广州、成都、西安、南京、厦门、新竹和硅谷等地有分支机构。

任何半导体产业相关需求,都可以提交给我们☞需求提交


    您可能也对以下帖子感兴趣

    文章有问题?点此查看未经处理的缓存