【CSEAC 2022】陛通参展第十届中国半导体设备年会

第十届中国半导体设备年会（CSEAC)

时间：2022年7月27-29日

地点：无锡太湖国际博览中心

展/商/推/荐

上海陛通半导体能源科技股份有限公司

展位号：B3-26

     上海陛通半导体能源科技股份有限公司成立于2008年11月，坐落在浦东新区张江科学城东园。历经14年的发展，公司已经成为国内领先的专业研制生产纳米级国产集成电路薄膜沉积工艺设备——化学气相沉积CVD、 物理气相沉积PVD和原子层沉积设备的高端半导体装备企业。并且已先后荣获上海市战新产业重大项目承接单位、“高新技术企业”、“科技小巨人培育企业”、“浦东研发机构”等各项荣誉，并获得国内外专利共148项。

    陛通半导体，正在为自主创新研发具有中国特色的半导体薄膜沉积设备，为早日实现国产超越而努力奋斗。

网址：www.betonetech.com

产品展示

Product presentation

JUPITER 3120 

JUPITER 3120 是一款用于12英寸全方位覆盖各种纳米级、微米级化学气相沉积设备，在达到行业内同类型设备中超高薄膜均匀性的基础上，实现均匀性客户定制化；四臂机械手同时传送四片12英吋晶圆，三对双子腔同时处理六片晶圆，设备上实现PECVD和SACVD同时进行两种工艺制程。

VENUS 2200

VENUS 2200是一款用于8英寸的物理气相沉积设备产品可广泛应用于逻辑，存储，第三代半导体，功率半导体，5G 射频前端，5G高频滤波器，声表面波（TC-SAW）滤波器，高方阻/低TCR薄膜电阻，以及先进封装等领域。

VENUS 3210

VENUS 3210是一款12英寸物理气相沉积设备，可沉积包括Al，AlCu，Ti/TiN，Ta/TaN，TiW/Au和Ti/Cu在内的多种金属薄膜，可广泛应用于逻辑、存储、第三代半导体、功率半导体、以及先进封装等领域。

MERCURY 3110

MERCURY 3110系列ALD是一款最新自主设计研发的12英寸热动力原子层沉积设备。ALD具有自主知识产权的独特的反应腔设计，在反应腔中晶圆的表面产生均匀的层流。具有制备厚度精确、均匀性好、致密无针孔及近乎百分之百覆盖率的优质薄膜。可用于沉积HfO2 , Al2O3, SiO2 and Nitrides等薄膜，在28nm, 14nm, 7nm及更高端芯片制造的薄膜沉积工艺中有着广泛的应用。

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