【CSEAC 2022】利满科技参展第十届中国半导体设备年会

第十届中国半导体设备年会（CSEAC)

时间：2022年7月27-29日

地点：无锡太湖国际博览中心

展/商/推/荐

利满科技（无锡）有限责任公司

展位号：B3-17

      利满科技（无锡）有限公司成立于2021年9月，其母公司为利满洋行（香港），致力于泛半导体行业专用设备销售、集成电路模拟仿真软件、半导体工艺化学品销售等业务；同时公司利用海内外资源，还提供了技术咨询、技术指导等服务。所销售产品主要分布在德国、奥地利、美国、日本等国家。

    主要产品有适用于光刻胶及树脂开发及量产检测的RDA光刻胶显影分析仪、光源设备以及虚拟计算光刻工具。  

    适用于产品及工艺开发的工艺仿真LAB光学光刻仿真软件、SEM图像自动检测分析软件等。适用于芯片制造的全自动涂胶显影设备、激光直写光刻机。以及各类适合于电子束、纳米压印的光刻胶、增粘剂、脱模剂等工艺化学品。 

https://raymondnco.com/

产品展示

Product presentation

LITHO TECH JAPAN (LTJ) 是一个为日本、韩国、台湾的半导体行业贡献了超过25年的半导体技术研发公司。LTJ尤其在光蚀刻（photolithography）、光刻胶生产、研发配套的分析仪器供应，顾问服务等等领域有卓越的地位。

自动涂胶/显影/烘烤设备  Dual-1000

概要：这是兼容了光刻胶旋涂单元和显影单元的机型。可自由组合烘焙板、冷却板、HMDS处理单元、无尘基板搬运Robot等。从2英寸以下的小片基板到300mm的晶片，根据客户的要求提供规格。

适用涂布材料/显影方法：

・g线/i线光刻胶、聚酰亚胺、层间绝缘膜等的涂布材料

・EB光刻胶、EUV光刻胶、ArF/KrF光刻胶等化学放大型涂布材料

・使用碱显影液、有机显影液的Puddle显影、喷雾显影

光刻胶显影分析仪 RDA-800

概要：可以评价Photoresist的显影速度。能计算出γ值、对比度曲线、表面难溶化参数、显影参数。通过晶片和透镜的显影液同步导入结构，也可对应ArF那样的高Rmax（5000nm/s）光刻胶。

特征：

Monitor数：18 频道

Monitor波长：470 nm 以及 950 nm（对应Dual）

适用光刻胶膜厚：80nm ～ 10μm

其他：具有显影液温度调整功能，透镜·晶圆同时自动导入，显影液自动供给·排水功能

Option：对应有机溶剂

德国GenISys GmbH公司为一家光学光刻模拟仿真LAB和SEM图像自动化测量分析等软件的专家。

 LAB 光刻工艺仿真软件

1.一体式光刻模拟，通过计算，设计和工艺优化，实现下一代产品更快开发!

2.仿真软件参数涵盖掩模、曝光、基片和显影等，包含了光罩、投影、激光光学和电子束等系统。LAB目前正在被FPD(面板)，LED, MEMS和3D封装的主要制造商使用。

ProSEM软件

1.根据保存的SEM图像得到稳定、一致、快速特征尺寸测量；使用简单，可用于Batch模式测量；

2.扫描电镜图像的高级特征边缘检测；可用于不同图形结构手动测量；灵活的数据分析

日本冲绳县的Nano System Solutions Inc.(NSS)是日本顶尖激光曝光系统生产商，我们很荣幸成为被NSS委托成为其中国独家代理。

无掩模激光直写设备　DL-1000 

DL-1000适用于3D灰度曝光，采用【数字化微型镜装置】DMD

应用:

*半导体、光学器件、微型 ID 记号。

*MEMS、生物科技、生命科学。

*NIL模具、掩模。

*与电子束光刻混搭使用。

*特定范围、小面积曝光用途。

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